В рамках 2-нм техпроцесса Samsung увеличит количество EUV-слоёв на 30 %
![В рамках 2-нм техпроцесса Samsung увеличит количество EUV-слоёв на 30 %](https://3dnews.ru/assets/external/illustrations/2024/07/22/1108291/samsung_01.jpg)
Производители полупроводниковых компонентов используют так называемую EUV-литографию лишь на определённых этапах технологического процесса, их количество от поколения к поколению возрастает. Так, если Samsung при производстве 3-нм чипов ограничивалась 20 слоями с EUV, то после перехода на 2-нм техпроцесс их количество вырастет на 30 %. Источник изображения: Samsung Electronics