В Китае признали свои литографы «небольшими и слабыми» в сравнении с ASML
Ведущие китайские руководители компаний по производству микросхем заявляют, что китайские альтернативы литографам нидерландской компании ASML «небольшие, фрагментированные и слабые» (small, fragmented, and weak). Как пишет Tom’s Hardware, китайские отраслевые гиганты призывают к новым общенациональным усилиям по инвестированию в передовые инструменты производства микросхем.
В частности, о необходимости совместной работы в этом направлении прямо заявляют главы корпораций SMIC и YMTC. Первая является крупнейшим в Китае контрактным производителем микросхем. А вторая – весьма крупный игрок на мировом рынке памяти со своими современными заводами на территории Китая.
Им вторит и компания Naura. Это китайский конкурент ASML – она занимается выпуском оборудования для производства полупроводников. Впрочем, до ASML по уровню развития Naura очень далеко – нидерландский вендор занимает около 90% мирового рынка литографов, и только лишь она поставляет устройства, при помощи которых можно делать чипы по топологиям 4 нм и тоньше.
SMIC, YMTC и Naura призвали к консолидированным общенациональным действиям для устранения отставания в технологиях производства микросхем, которое не удалось преодолеть за годы инвестиций. Они фактически публично призвали к консолидированным национальным усилиям по созданию отечественной альтернативы продукции ASML.
Топ-менеджеры предупредили, что на нынешнем этапе своего развития китайская индустрия оборудования для производства микросхем слишком мала и фрагментирована, чтобы самостоятельно преодолеть экспортные ограничения США.
В США тоже есть свои производители литографов, например, Applied Materials, но у них сравнительно небольшая доля рынка. Однако власти США научились управлять ASML, хотя она и не подчиняется им напрямую.
Америка руководит ASML через власти Нидерландов. В числе прочего она принуждает ее к ограничению поставок в КНР и мешает ей обслуживать ранее отгруженные в Китай литографы.
SMIC, YMTC и Naura указали на три конкретных области, в в которых экспортный контроль США душит амбиции Китая в полупроводниковой отрасли. Выявить их им помогла китайская компания EDA Empyrean – разработчик ПО для автоматизации проектирования электроники (electronic design automation, EDA).
Первая область – это как раз софт для автоматизации проектирования электроники, вторая – производственное оборудование, третья – непосредственно сами кремниевые пластины, на которых выращиваются кристаллы микросхем.
Под производственным оборудованием компании подразумевают все, что связано с литографией в экстремальном ультрафиолете (EUV). Эта технология позволяет производить чипы с топологией 7 нм и тоньше, и доступ к такому оборудованию благодаря США очень ограничен.
Ввиду этого Китай пока делает ставку на глубокий ультрафиолет или DUV. Эта технология тоже позволяет производить микросхемы, только по более старым нормам – 8 нм и толще.
Китай действительно сильно отстает от мировых трендов в области производства микросхем. Самая передовая в Китае система DUV-литографии отечественного производства от компании Yuliangsheng технически сопоставима с системой ASML Twinscan NXT:1950i — машиной, первоначально разработанной ASML для 32-нм техпроцессов еще в 2008 г.
Даже если SMIC удастся интегрировать этот инструмент в 28-нм техпроцесс к 2027 г., достижение размера менее 10 нм потребует перепроектирования сканеров и нескольких дополнительных лет разработки. По предварительным данным, прототип установки для EUV-литографии был завершен в лаборатории в Шэньчжэне, но коммерческая жизнеспособность EUV-литографии требует решения проблем с выходом годных изделий, на преодоление которых ASML потребовалось почти два десятилетия после создания собственного прототипа.
Иными словами, ASML ушла далеко вперед. Китай сейчас проходит те же этапы, через которые она прошла много десятилетий назад. При этом у ASML накоплен огромный опыт и создана гигантская цепочка поставок, насчитывающая более 5000 субподрядчиков
Даже если КНР будет массово заниматься реверс-инжинирингом, то есть буквально разбирать литографы ASML, чтобы понять, как они устроены, наладить производство их копий в кратчайшие сроки не удастся, пишет Tom’s Hardware.
Как пишет издание South China Morning Post, руководители компаний SMIC, YMTC, Naura и EDA Empyrean хотят, чтобы Китай, наконец, понял всю реальность происходящего в своей полупроводниковой отрасли. Они призвали компании из этой сферы «отбросить иллюзии и подготовиться к борьбе» (abandon illusions and prepare for struggle).
По их словам, нынешняя фрагментированность отрасли влечет за собой лишь одни проблемы. Они утверждают, что фрагментированное государственное финансирование распределяет ресурсы между слишком многими конкурирующими направлениями, не принося результатов.
Напомним, в Китае сосредоточено гигантское количество ИТ-фирм, в той или иной степени связанных с производством и разработкой микросхем. Они открываются и закрываются тысячами в год.
По информации Tom’s Hardware, в настоящее время в КНР на завершающей стадии находится разработка плана на ближайшие пять лет по развитию полупроводниковой отрасли. Он будет представлен в середине марта 2026 г. и охватывает период с 2026 по 2030 гг. включительно.
По предварительным данным, приоритетные задачи этого плана – прорывы в области литографии и разработка инструментов автоматизации проектирования электроники. Государственный фонд Big Fund III, в который выделено около $47,5 млрд на развитие полупроводниковой отрасли, уже перенаправил новые средства на литографию и EDA в качестве замены инструментам ASML и Synopsys (американский разработчик ПО и IP для проектирования ИС).
Сообщение В Китае признали свои литографы «небольшими и слабыми» в сравнении с ASML появились сначала на Время электроники.