Нанопечатное оборудование Canon способно выпускать 11-нм чипы

С 4 по 6 ноября в Токио прошла очередная выставка Tokyo International Forum 2015. Одним из центров притяжения мероприятия стала экспозиция компании Canon — Canon Expo. Но прежде отметим, что компания известна не только своими фотокамерами. Это один из немногих в мире производителей оборудования для производства полупроводников. Как и её коллеги по цеху, Canon столкнулась с трудностями при создании эффективных инструментов для освоения полупроводниковой литографии с нормами менее 20 нм. Проблему приходится решать многократным экспонированием с использованием двух и более фотошаблонов, что заставляет балансировать на грани прибыльности. Есть ли альтернатива? Для определённых задач, уверены в Canon, такая альтернатива есть. Несколько лет назад компания Canon всерьёз взялась за создание оборудования с использованием нанопечатных технологий. Рабочим инструментом такого оборудования является условно простой трафарет для оттиска, а не лазер с его сложной оптической системой. Теоретически трафарет можно изготовить для выпуска полупроводников с любыми нормами производства без оглядки на длину волны актуальных сканеров. Это будет недёшево, но окупится при производстве. Также следует отметить, что нанопечатная литография работает заметно медленнее, чем лазерная. Этот недостаток (или особенность) можно компенсировать, разместив бок о бок несколько установок для печати, благо они значительно меньше по габаритам, чем традиционный сканер.